概述

TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數(shù)、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質(zhì)的結構和單晶位錯等。

TDF系列X射線晶體分析儀特點

采用立式管套，四個窗口可以同時使用。

采用進口PLC控制技術，控制精度高、抗干擾性好，可實現(xiàn)本系統(tǒng)可靠地工作，PLC控制高壓的開關、升降、具有自動訓練X光管的功能，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。

高壓發(fā)生器（采用進口PLC控制）

管電壓：10-60KV；

管電流：2-60mA；

管電壓、管電流穩(wěn)定度≤±0.005%；

額定輸出功率：3KW。

高壓電纜  

介電電壓≥100KV；

長度：2M。

X射線管

額定功率：2.4KW；

焦點尺寸（mm2）：點焦點（1×1）線焦點（1×10）；

靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。

X射線照相機

勞厄相機（大小粉末）

平板相機

三維樣品臺

美國Multiwire相機

X射線防護罩

采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩，外射線量不大于0.1µ Sv/h